特定工場における公害防止組織の整備に関する法律に基づく汚水等排出施設（坂井健康福祉センター）

最終更新日 2012年4月1日 ｜ ページID 003667

（特定工場における公害防止組織の整備に関する法律施行令別表第一）

• 一　水質汚濁防止法施行令別表第一（以下単に「別表第一」という。）第十九号に掲げる施設（トリクロロエチレン又はテトラクロロエチレンを使用する染色又は薬液浸透の用に供するものに限る。）
• 二　別表第一第二十二号に掲げる施設（六価クロム化合物又は砒素化合物を使用する木材の薬品処理の用に供するものに限る。）
• 三　別表第一第二十三号の二に掲げる施設（トリクロロエチレン又はテトラクロロエチレンを使用する自動式のフイルムの現像洗浄又は自動式の感光膜付印刷版の現像洗浄の用に供するものに限る。）
• 四　別表第一第二十四号に掲げる施設（ふつ素若しくはその化合物を含有する物質、ほう素若しくはその化合物又はアンモニア、アンモニウム化合物、亜硝酸化合物若しくは硝酸化合物を原料として使用する化学肥料の製造の用に供するものに限る。）
• 五　別表第一第二十五号に掲げる施設
• 六　別表第一第二十六号に掲げる施設（カドミウム若しくはその化合物、鉛若しくはその化合物又は水銀若しくはその化合物を含有する無機顔料の製造の用に供するものに限る。）
• 七　別表第一第二十七号に掲げる施設（水質汚濁防止法施行令第二条各号に掲げる物質（以下「有害物質」という。）又はこれらを含有する物質を原料又は触媒として使用する無機化学工業製品の製造の用に供するもの及び黄燐の製造の用に供するものに限る。）
• 八　別表第一第二十八号に掲げる施設（塩化ビニルモノマーの製造の用に供するものに限る。）
• 九　別表第一第二十九号に掲げる施設
• 十　別表第一第三十一号に掲げる施設（トリクロロエチレン又はテトラクロロエチレンを原料として使用するフロンガスの製造の用に供するものに限る。）
• 十一　別表第一第三十二号に掲げる施設（トリクロロエチレン若しくはテトラクロロエチレンを原料として使用する有機顔料又は合成染料の製造の用に供するもの又は銅フタロシアニン系顔料の製造の用に供するものに限る。）
• 十二　別表第一第三十三号に掲げる施設（トリクロロエチレン又はテトラクロロエチレンを溶剤として使用するふつ素樹脂の製造の用に供するものに限る。）
• 十三　別表第一第三十四号に掲げる施設（テトラクロロエチレンを含有する物質を原料として使用する合成ゴムの製造の用に供するもの又はニトリル・ブタジエンゴムの製造の用に供するものに限る。）
• 十四　別表第一第三十七号に掲げる施設（トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、アクリロニトリル、テレフタル酸（カドミウム化合物を触媒として使用して製造するものに限る。）、メチルメタアクリレートモノマー、ウレタン原料（硝酸化合物を原料として使用して製造するものに限る。）、高級アルコール（一分子を構成する炭素の原子の数が六個以上のアルコールをいい、ほう素化合物を触媒として使用して製造するものに限る。）、ポリ（オキシエチレン）＝アルキルエーテル（ふつ素化合物を触媒として使用して製造するものに限る。）、キシレン（ほう素化合物を触媒として使用し、又はふつ素化合物を溶剤として使用して製造するものに限る。）又はアルキルベンゼン（ふつ素化合物を触媒として使用して製造するものに限る。）の製造の用に供するものに限る。）
• 十五　別表第一第四十一号に掲げる施設（トリクロロエチレン又はテトラクロロエチレンを使用する抽出の用に供するものに限る。）
• 十六　別表第一第四十三号に掲げる施設
• 十七　別表第一第四十六号に掲げる施設（有害物質若しくはこれらを含有する物質を原料若しくは触媒として使用し、又はトリクロロエチレン若しくはテトラクロロエチレンを溶剤として使用する有機化学工業製品の製造の用に供するものに限る。）
• 十八　別表第一第四十七号に掲げる施設（水銀若しくはその化合物、鉛若しくはその化合物若しくは砒素若しくはその化合物若しくはこれらを含有する物質を原料若しくは触媒として使用し、又はトリクロロエチレン若しくはテトラクロロエチレンを溶剤として使用する医薬品の製造の用に供するものに限る。）
• 十九　別表第一第四十八号に掲げる施設（ほう素若しくはその化合物、ふつ素若しくはその化合物又はアンモニア、アンモニウム化合物、亜硝酸化合物若しくは硝酸化合物を原料として使用する火薬の製造の用に供するものに限る。）
• 二十　別表第一第五十号に掲げる施設（トリクロロエチレン又はテトラクロロエチレンの試薬の製造の用に供するものに限る。）
• 二十一　別表第一第五十一号に掲げる施設（トリクロロエチレンを使用する潤滑油の洗浄の用に供するものに限る。）
• 二十二　別表第一第五十三号に掲げる施設（硫化カドミウム、炭酸カドミウム、酸化鉛、ほう素若しくはその化合物若しくはふつ素化合物を原料として使用するガラス若しくはガラス製品の製造の用に供するもの又はトリクロロエチレン若しくはふつ素若しくはその化合物を使用する研摩洗浄の用に供するものに限る。）
• 二十三　別表第一第五十八号に掲げる施設（ほう素化合物を原料として使用するうわ薬原料の精製の用に供するものに限る。）
• 二十四　別表第一第六十一号に掲げる施設（コークスの製造又は転炉ガスの冷却洗浄の用に供するものに限る。）
• 二十五　別表第一第六十二号に掲げる施設（銅、鉛若しくは亜鉛の第一次製錬若しくは鉛若しくは亜鉛の第二次製錬、水銀の精製又はふつ素化合物を原料として使用するウランの酸化物の製造の用に供するものに限る。）
• 二十六　別表第一第六十三号に掲げる施設（液体浸炭による焼入れ、シアン化合物若しくは六価クロム化合物を使用する電解式洗浄、カドミウム電極若しくは鉛電極の化成又は水銀の精製の用に供するものに限る。）
• 二十七　別表第一第六十三号の三に掲げる施設
• 二十八　別表第一第六十四号に掲げる施設（コークス炉ガス又はコークスの製造の用に供するものに限る。）
• 二十九　別表第一第六十五号に掲げる施設（クロム酸、ほう素若しくはその化合物、ふつ素若しくはその化合物又はアンモニア、アンモニウム化合物、亜硝酸化合物若しくは硝酸化合物による表面処理の用に供するものに限る。）
• 三十　別表第一第六十六号に掲げる施設（カドミウム化合物、シアン化合物、六価クロム化合物、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、ほう素化合物、ふつ素化合物又はアンモニウム化合物、亜硝酸化合物若しくは硝酸化合物を使用する電気めつきの用に供するものに限る。）
• 三十一　別表第一第七十一号の五に掲げる施設
• 三十二　別表第一第七十一号の六に掲げる施設